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          Eksma 線性偏振激光束的電動可變衰減器-1

          簡要描述:Eksma 線性偏振激光束的電動可變衰減器-1
          具有&#248;17 mm通光孔徑的電動可變衰減器,由兩個薄膜Brewster型偏振片和λ/ 2波片安裝在精密的電動旋轉安裝座中。衰減器是為許多流行的激光波長設計的。

          • 產品品牌:Eksma
          • 廠商性質:代理商
          • 更新時間:2021-03-19
          • 訪  問  量:92

          詳細介紹

          品牌其他品牌價格區間面議
          組件類別光學元件應用領域醫療衛生,環保,化工,電子,綜合

          Eksma 線性偏振激光束的電動可變衰減器-1

          990-0070M


          Eksma 線性偏振激光束的電動可變衰減器-1

          具有ø17 mm通光孔徑的電動可變衰減器,由兩個薄膜Brewster型偏振片和λ/ 2波片安裝在精密的電動旋轉安裝座中。衰減器是為許多流行的激光波長設計的。

          產品介紹

          該電動可變衰減器/分束器包括特殊設計的光機械適配器和精密光機械支架840-0193。適配器中裝有兩個薄膜Brewster型偏振片,它們反射s偏振光同時透射p偏振光。石英半波片安裝在電動旋轉平臺960-0161中。

          可以通過旋轉波片連續改變這兩個光束的強度比,而不會改變其他光束參數??梢栽诤軐挼膭討B范圍內控制出射光束的強度或其強度比??梢赃x擇P偏振以獲得較大的透射率,或者當透射光束發生較大衰減時可以反射高純度s偏振。保持器840-0193允許將薄膜布魯斯特型偏振片的入射角調整±2°,并獲得較大的偏振對比度。

           

          注意:控制器和電源應單獨訂購。

          EKSMA OPTICS是激光,激光系統和光學儀器中使用的精密激光組件的制造商和供應商。 我們的激光組件可在科學,工業,醫學,美學,軍事和航空航天市場的不同激光和光子學應用中使用。 波長范圍從紫外(193 nm)到可見光(VIS)到紅外(20μm)以及太赫茲(THz)范圍的激光光學組件的應用范圍。
          EKSMA Optics是高功率激光應用,激光介質和非線性頻率轉換晶體,光機械,帶驅動器的電光普克爾盒以及超快脈沖拾取系統的制造商和供應商,它們用于激光器和其他應用光學儀器。
          EKSMA Optics從1983年開始在激光領域開始其一項業務,其基礎是在激光和光學領域的長期專業知識。
          公司提供的所有組件均經過質量控制實驗室的高質量測試和認證。 通過嚴格的檢查程序,質量控制評估以及對新技術的承諾,我們不斷改進并提供優良的質量。 EKSMA OPTICS已通過ISO 9001:2015認證。 必維檢驗集團(Bureau Veritas)頒發的認證。
          EKSMA OPTICS大力投資于的制造設備和擴展制造能力。
          公司擁有:?用于平板玻璃和熔融石英光學元件的切割,研磨和拋光設備。 nonlinear可根據要求提供非線性和電光晶體LBO,BBO,KDP,DKDP,KTP,AgGaSe2,ZnGeP2和其他晶體的拋光設備。 of球面鏡和非球面鏡(包括軸錐)的研磨和拋光設備。 在我們的鏡頭生產工廠中,鏡頭由N-BK7,S-LAH64和UVFS制成。 ?IBS鍍膜設施可用于激光光學和晶體的,超精密薄膜鍍膜。 of電光調制器的組裝設備–基于BBO,DKDP和KTP晶體的普克爾斯盒。

          產品型號

          適用于Nd:YAG激光應用

          型號

          波長

          激光損傷閾值

          配置

          990-0070-355M

          355 nm

          5 J/cm², 10 ns pulses, 10 Hz, 1064 nm

          without controller & power supply

          990-0070-355M+CP

          355 nm

          5 J/cm², 10 ns pulses, 10 Hz, 1064 nm

          with controller & power supply

          990-0070-532M

          532 nm

          5 J/cm², 10 ns pulses, 10 Hz, 1064 nm

          without controller & power supply

          990-0070-532M+CP

          532 nm

          5 J/cm², 10 ns pulses, 10 Hz, 1064 nm

          with controller & power supply

          990-0070-1064M

          1064 nm

          5 J/cm², 10 ns pulses, 10 Hz, 1064 nm

          without controller & power supply

          990-0070-1064M+CP

          1064 nm

          5 J/cm², 10 ns pulses, 10 Hz, 1064 nm

          with controller & power supply

          飛秒應用

          型號

          波長

          激光損傷閾值

          配置

          990-0070-257M

          257 nm

          > 10 mJ/cm², 50 fs pulse, 800 nm

          without controller & power supply

          990-0070-257M+CP

          257 nm

          > 10 mJ/cm², 50 fs pulse, 800 nm

          with controller & power supply

          990-0070-266M

          266 nm

          > 10 mJ/cm², 50 fs pulse, 800 nm

          without controller & power supply

          990-0070-266M+CP

          266 nm

          > 10 mJ/cm², 50 fs pulse, 800 nm

          with controller & power supply

          990-0070-343M

          343 nm

          > 10 mJ/cm², 50 fs pulse, 800 nm

          without controller & power supply

          990-0070-343M+CP

          343 nm

          > 10 mJ/cm², 50 fs pulse, 800 nm

          with controller & power supply

          990-0070-400M

          400 nm

          > 10 mJ/cm², 50 fs pulse, 800 nm

          without controller & power supply

          990-0070-400M+CP

          400 nm

          > 10 mJ/cm², 50 fs pulse, 800 nm

          with controller & power supply

          990-0070-400BM

          390-410 nm

          > 10 mJ/cm², 50 fs pulse, 800 nm

          without controller & power supply

          990-0070-400BM+CP

          390-410 nm

          > 10 mJ/cm², 50 fs pulse, 800 nm

          with controller & power supply

          990-0070-515M

          515 nm

          > 10 mJ/cm², 50 fs pulse, 800 nm

          without controller & power supply

          990-0070-515M+CP

          515 nm

          > 10 mJ/cm², 50 fs pulse, 800 nm

          with controller & power supply

          990-0070-515BM

          505-525 nm

          > 10 mJ/cm², 50 fs pulse, 800 nm

          without controller & power supply

          990-0070-515BM+CP

          505-525 nm

          > 10 mJ/cm², 50 fs pulse, 800 nm

          with controller & power supply

          990-0070-800M

          800 nm

          > 10 mJ/cm², 50 fs pulse, 800 nm

          without controller & power supply

          990-0070-800M+CP

          800 nm

          > 10 mJ/cm², 50 fs pulse, 800 nm

          with controller & power supply

          990-0070-800BM

          780-820 nm

          > 10 mJ/cm², 50 fs pulse, 800 nm

          without controller & power supply

          990-0070-800BM+CP

          780-820 nm

          > 10 mJ/cm², 50 fs pulse, 800 nm

          with controller & power supply

          990-0070-1030M

          1030 nm

          > 10 mJ/cm², 50 fs pulse, 800 nm

          without controller & power supply

          990-0070-1030M+CP

          1030 nm

          > 10 mJ/cm², 50 fs pulse, 800 nm

          with controller & power supply

          990-0070-1030BM

          1010-1050 nm

          > 10 mJ/cm², 50 fs pulse, 800 nm

          without controller & power supply

          990-0070-1030BM+CP

          1010-1050 nm

          > 10 mJ/cm², 50 fs pulse, 800 nm

          with controller & power supply

          適用于高功率飛秒應用

          型號

          波長

          激光損傷閾值

          配置

          990-0070-257HM

          257 nm

          > 100 mJ/cm², 50 fs pulse, 800 nm

          without controller & power supply

          990-0070-257HM+CP

          257 nm

          > 100 mJ/cm², 50 fs pulse, 800 nm

          with controller & power supply

          990-0070-266HM

          266 nm

          > 100 mJ/cm², 50 fs pulse, 800 nm

          without controller & power supply

          990-0070-266HM+CP

          266 nm

          > 100 mJ/cm², 50 fs pulse, 800 nm

          with controller & power supply

          990-0070-343HM

          343 nm

          > 100 mJ/cm², 50 fs pulse, 800 nm

          without controller & power supply

          990-0070-343HM+CP

          343 nm

          > 100 mJ/cm², 50 fs pulse, 800 nm

          with controller & power supply

          990-0070-400HM

          400 nm

          > 100 mJ/cm², 50 fs pulse, 800 nm

          without controller & power supply

          990-0070-400HM+CP

          400 nm

          > 100 mJ/cm², 50 fs pulse, 800 nm

          with controller & power supply

          990-0070-400HBM

          390-410 nm

          > 100 mJ/cm², 50 fs pulse, 800 nm

          without controller & power supply

          990-0070-400HBM+CP

          390-410 nm

          > 100 mJ/cm², 50 fs pulse, 800 nm

          with controller & power supply

          990-0070-515HM

          515 nm

          > 100 mJ/cm², 50 fs pulse, 800 nm

          without controller & power supply

          990-0070-515HM+CP

          515 nm

          > 100 mJ/cm², 50 fs pulse, 800 nm

          with controller & power supply

          990-0070-515HBM

          505-525 nm

          > 100 mJ/cm², 50 fs pulse, 800 nm

          without controller & power supply

          990-0070-515HBM+CP

          505-525 nm

          > 100 mJ/cm², 50 fs pulse, 800 nm

          with controller & power supply

          990-0070-800HM

          800 nm

          > 100 mJ/cm², 50 fs pulse, 800 nm

          without controller & power supply

          990-0070-800HM+CP

          800 nm

          > 100 mJ/cm², 50 fs pulse, 800 nm

          with controller & power supply

          990-0070-800HBM

          780-820 nm

          > 100 mJ/cm², 50 fs pulse, 800 nm

          without controller & power supply

          990-0070-800HBM+CP

          780-820 nm

          > 100 mJ/cm², 50 fs pulse, 800 nm

          with controller & power supply

          990-0070-1030HM

          1030 nm

          > 100 mJ/cm², 50 fs pulse, 800 nm

          without controller & power supply

          990-0070-1030HM+CP

          1030 nm

          > 100 mJ/cm², 50 fs pulse, 800 nm

          with controller & power supply

          990-0070-1030HBM

          1010-1050 nm

          > 100 mJ/cm², 50 fs pulse, 800 nm

          without controller & power supply

          990-0070-1030HBM+CP

          1010-1050 nm

          > 100 mJ/cm², 50 fs pulse, 800 nm

          with controller & power supply

           EKSMA OPTICS是激光,激光系統和光學儀器中使用的精密激光組件的制造商和供應商。 我們的激光組件可在科學,工業,醫學,美學,軍事和航空航天市場的不同激光和光子學應用中使用。 波長范圍從紫外(193 nm)到可見光(VIS)到紅外(20μm)以及太赫茲(THz)范圍的激光光學組件的應用范圍。
          EKSMA Optics是高功率激光應用,激光介質和非線性頻率轉換晶體,光機械,帶驅動器的電光普克爾盒以及超快脈沖拾取系統的制造商和供應商,它們用于激光器和其他應用光學儀器。
          EKSMA Optics從1983年開始在激光領域開始其一項業務,其基礎是在激光和光學領域的長期專業知識。
          公司提供的所有組件均經過質量控制實驗室的高質量測試和認證。 通過嚴格的檢查程序,質量控制評估以及對新技術的承諾,我們不斷改進并提供優良的質量。 EKSMA OPTICS已通過ISO 9001:2015認證。 必維檢驗集團(Bureau Veritas)頒發的認證。
          EKSMA OPTICS大力投資于的制造設備和擴展制造能力。
          公司擁有:?用于平板玻璃和熔融石英光學元件的切割,研磨和拋光設備。 nonlinear可根據要求提供非線性和電光晶體LBO,BBO,KDP,DKDP,KTP,AgGaSe2,ZnGeP2和其他晶體的拋光設備。 of球面鏡和非球面鏡(包括軸錐)的研磨和拋光設備。 在我們的鏡頭生產工廠中,鏡頭由N-BK7,S-LAH64和UVFS制成。 ?IBS鍍膜設施可用于激光光學和晶體的,超精密薄膜鍍膜。 of電光調制器的組裝設備–基于BBO,DKDP和KTP晶體的普克爾斯盒。EKSMA OPTICS是激光,激光系統和光學儀器中使用的精密激光組件的制造商和供應商。 我們的激光組件可在科學,工業,醫學,美學,軍事和航空航天市場的不同激光和光子學應用中使用。 波長范圍從紫外(193 nm)到可見光(VIS)到紅外(20μm)以及太赫茲(THz)范圍的激光光學組件的應用范圍。
          EKSMA Optics是高功率激光應用,激光介質和非線性頻率轉換晶體,光機械,帶驅動器的電光普克爾盒以及超快脈沖拾取系統的制造商和供應商,它們用于激光器和其他應用光學儀器。
          EKSMA Optics從1983年開始在激光領域開始其一項業務,其基礎是在激光和光學領域的長期專業知識。
          公司提供的所有組件均經過質量控制實驗室的高質量測試和認證。 通過嚴格的檢查程序,質量控制評估以及對新技術的承諾,我們不斷改進并提供優良的質量。 EKSMA OPTICS已通過ISO 9001:2015認證。 必維檢驗集團(Bureau Veritas)頒發的認證。
          EKSMA OPTICS大力投資于的制造設備和擴展制造能力。
          公司擁有:?用于平板玻璃和熔融石英光學元件的切割,研磨和拋光設備。 nonlinear可根據要求提供非線性和電光晶體LBO,BBO,KDP,DKDP,KTP,AgGaSe2,ZnGeP2和其他晶體的拋光設備。 of球面鏡和非球面鏡(包括軸錐)的研磨和拋光設備。 在我們的鏡頭生產工廠中,鏡頭由N-BK7,S-LAH64和UVFS制成。 ?IBS鍍膜設施可用于激光光學和晶體的,超精密薄膜鍍膜。 of電光調制器的組裝設備–基于BBO,DKDP和KTP晶體的普克爾斯盒。EKSMA OPTICS是激光,激光系統和光學儀器中使用的精密激光組件的制造商和供應商。 我們的激光組件可在科學,工業,醫學,美學,軍事和航空航天市場的不同激光和光子學應用中使用。 波長范圍從紫外(193 nm)到可見光(VIS)到紅外(20μm)以及太赫茲(THz)范圍的激光光學組件的應用范圍。
          EKSMA Optics是高功率激光應用,激光介質和非線性頻率轉換晶體,光機械,帶驅動器的電光普克爾盒以及超快脈沖拾取系統的制造商和供應商,它們用于激光器和其他應用光學儀器。
          EKSMA Optics從1983年開始在激光領域開始其一項業務,其基礎是在激光和光學領域的長期專業知識。
          公司提供的所有組件均經過質量控制實驗室的高質量測試和認證。 通過嚴格的檢查程序,質量控制評估以及對新技術的承諾,我們不斷改進并提供優良的質量。 EKSMA OPTICS已通過ISO 9001:2015認證。 必維檢驗集團(Bureau Veritas)頒發的認證。
          EKSMA OPTICS大力投資于的制造設備和擴展制造能力。
          公司擁有:?用于平板玻璃和熔融石英光學元件的切割,研磨和拋光設備。 nonlinear可根據要求提供非線性和電光晶體LBO,BBO,KDP,DKDP,KTP,AgGaSe2,ZnGeP2和其他晶體的拋光設備。 of球面鏡和非球面鏡(包括軸錐)的研磨和拋光設備。 在我們的鏡頭生產工廠中,鏡頭由N-BK7,S-LAH64和UVFS制成。 ?IBS鍍膜設施可用于激光光學和晶體的,超精密薄膜鍍膜。 of電光調制器的組裝設備–基于BBO,DKDP和KTP晶體的普克爾斯盒。EKSMA OPTICS是激光,激光系統和光學儀器中使用的精密激光組件的制造商和供應商。 我們的激光組件可在科學,工業,醫學,美學,軍事和航空航天市場的不同激光和光子學應用中使用。 波長范圍從紫外(193 nm)到可見光(VIS)到紅外(20μm)以及太赫茲(THz)范圍的激光光學組件的應用范圍。
          EKSMA Optics是高功率激光應用,激光介質和非線性頻率轉換晶體,光機械,帶驅動器的電光普克爾盒以及超快脈沖拾取系統的制造商和供應商,它們用于激光器和其他應用光學儀器。
          EKSMA Optics從1983年開始在激光領域開始其一項業務,其基礎是在激光和光學領域的長期專業知識。
          公司提供的所有組件均經過質量控制實驗室的高質量測試和認證。 通過嚴格的檢查程序,質量控制評估以及對新技術的承諾,我們不斷改進并提供優良的質量。 EKSMA OPTICS已通過ISO 9001:2015認證。 必維檢驗集團(Bureau Veritas)頒發的認證。
          EKSMA OPTICS大力投資于的制造設備和擴展制造能力。
          公司擁有:?用于平板玻璃和熔融石英光學元件的切割,研磨和拋光設備。 nonlinear可根據要求提供非線性和電光晶體LBO,BBO,KDP,DKDP,KTP,AgGaSe2,ZnGeP2和其他晶體的拋光設備。 of球面鏡和非球面鏡(包括軸錐)的研磨和拋光設備。 在我們的鏡頭生產工廠中,鏡頭由N-BK7,S-LAH64和UVFS制成。 ?IBS鍍膜設施可用于激光光學和晶體的,超精密薄膜鍍膜。 of電光調制器的組裝設備–基于BBO,DKDP和KTP晶體的普克爾斯盒。

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