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          Eksma 高反射鍍膜

          簡要描述:Eksma 高反射鍍膜
          多層介電高反射率(HR)鍍膜是用于在AOI = 0&#176;或45&#176;時在特定的激光線波長處實現較高反射率的疊層。我們提供226 nm至2100 nm的HR激光線鍍膜。

          • 產品品牌:Eksma
          • 廠商性質:代理商
          • 更新時間:2021-03-22
          • 訪  問  量:99

          詳細介紹

          品牌其他品牌價格區間面議
          組件類別光學元件應用領域醫療衛生,環保,化工,電子,綜合

          Eksma 高反射鍍膜




          Eksma 高反射鍍膜

          介電多層高反射率鍍膜是用于在AOI = 0°或45°時在特定的激光線波長處實現較大可能反射率的疊層。

          產品介紹

          多層介電高反射率(HR)鍍膜是用于在AOI = 0°或45°時在特定的激光線波長處實現較高反射率的疊層。我們提供226 nm至2100 nm的HR激光線鍍膜。

          激光線高反射率鍍膜適用于外部光束處理應用,在這些應用中,甚至可能會有很小的損失。

          請發送帶有鍍膜和基材代碼的定制產品請求,以獲取報價。對于基材,請參閱我們的標準未鍍膜激光窗口部分。

          EKSMA OPTICS是激光,激光系統和光學儀器中使用的精密激光組件的制造商和供應商。 我們的激光組件可在科學,工業,醫學,美學,軍事和航空航天市場的不同激光和光子學應用中使用。 波長范圍從紫外(193 nm)到可見光(VIS)到紅外(20μm)以及太赫茲(THz)范圍的激光光學組件的應用范圍。
          EKSMA Optics是高功率激光應用,激光介質和非線性頻率轉換晶體,光機械,帶驅動器的電光普克爾盒以及超快脈沖拾取系統的制造商和供應商,它們用于激光器和其他應用光學儀器。
          EKSMA Optics從1983年開始在激光領域開始其一項業務,其基礎是在激光和光學領域的長期專業知識。
          公司提供的所有組件均經過質量控制實驗室的高質量測試和認證。 通過嚴格的檢查程序,質量控制評估以及對新技術的承諾,我們不斷改進并提供優良的質量。 EKSMA OPTICS已通過ISO 9001:2015認證。 必維檢驗集團(Bureau Veritas)頒發的認證。
          EKSMA OPTICS大力投資于的制造設備和擴展制造能力。
          公司擁有:?用于平板玻璃和熔融石英光學元件的切割,研磨和拋光設備。 nonlinear可根據要求提供非線性和電光晶體LBO,BBO,KDP,DKDP,KTP,AgGaSe2,ZnGeP2和其他晶體的拋光設備。 of球面鏡和非球面鏡(包括軸錐)的研磨和拋光設備。 在我們的鏡頭生產工廠中,鏡頭由N-BK7,S-LAH64和UVFS制成。 ?IBS鍍膜設施可用于激光光學和晶體的,超精密薄膜鍍膜。 of電光調制器的組裝設備–基于BBO,DKDP和KTP晶體的普克爾斯盒。

          產品型號

          高反射率激光線鍍膜

          鍍膜型號

          波長

          反射率(%)

          推薦

          損傷

          AOI=0°


          AOI=45°


          nm


          AOI=0°

          AOI=45°

          基材

          閾值

          1007-i0

          1007-i45

          226

          >99

          >99

          UVFS

          1 J/cm2
          in 10 ns

          1009-i0

          1009-i45

          248

          >99

          >99

          UVFS

          1.5 J/cm2
          in 10 ns

          1011-i0

          1011-i45

          266

          >99.5

          >99

          UVFS

          1.5 J/cm2
          in 10 ns

          1013-i0

          1013-i45

          308

          >99.5

          >99.2

          UVFS

          1.5 J/cm2
          in 10 ns

          1015-i0

          1015-i45

          325

          >99.5

          >99.2

          UVFS

          1.5 J/cm2
          in 10 ns

          1017-i0

          1017-i45

          337

          >99.7

          >99.5

          UVFS

          1.5 J/cm2
          in 10 ns

          1019-i0

          1019-i45

          355

          >99.7

          >99.5

          UVFS

          1.5 J/cm2
          in 10 ns

          1021-i0

          1021-i45

          400

          >99.7

          >99.5

          UVFS

          1.5 J/cm2
          in 10 ns

          1023-i0

          1023-i45

          473

          >99.7

          >99.5

          UVFS, BK7

          1.5 J/cm2
          in 10 ns

          1024-i0

          1024-i45

          488-515

          >99.7

          >99.5

          UVFS, BK7

          1.5 J/cm2
          in 10 ns

          1025-i0

          1025-i45

          532

          >99.7

          >99.5

          UVFS, BK7

          5 J/cm2
          in 10 ns

          1027-i0

          1027-i45

          589

          >99.7

          >99.5

          UVFS, BK7

          5 J/cm2
          in 10 ns

          1029-i0

          1029-i45

          616

          >99.7

          >99.5

          UVFS, BK7

          5 J/cm2
          in 10 ns

          1030-i0

          1030-i45

          633

          >99.7

          >99.5

          UVFS, BK7

          5 J/cm2
          in 10 ns

          1031-i0

          1031-i45

          780

          >99.7

          >99.5

          UVFS, BK7

          5 J/cm2
          in 10 ns

          1032-i0

          1032-i45

          800

          >99.7

          >99.5

          UVFS, BK7

          5 J/cm2
          in 10 ns

          1033-i0

          1033-i45

          830

          >99.7

          >99.5

          UVFS, BK7

          5 J/cm2
          in 10 ns

          1034-i0

          1034-i45

          852

          >99.7

          >99.5

          UVFS, BK7

          5 J/cm2
          in 10 ns

          1037-i0

          1037-i45

          1064

          >99.7

          >99.5

          UVFS, BK7

          5 J/cm2
          in 10 ns

          1039-i0

          1039-i45

          1320

          >99.7

          >99.5

          UVFS, BK7

          1.5 J/cm2
          in 10 ns

          1045-i0

          1045-i45

          1550

          >99.7

          >99.5

          UVFS, BK7

          1.5 J/cm2
          in 10 ns

          1047-i0

          1047-i45

          2000

          >99

          >99

          UVFS, Sapphire

          1.5 J/cm2
          in 10 ns

          1049-i0

          1049-i45

          2100

          >99

          >99

          UVFS, Sapphire

          1.5 J/cm2
          in 10 ns

           

          高反射率寬帶涂層

          鍍膜型號

          波長

          反射率(%)

          推薦

          損傷

          AOI=0°


          AOI=45°


          nm


          AOI=0°

          AOI=45°

          基材

          閾值

          1106-i0

          1106-i45

          220-250

          >99

          >99

          UVFS

          1 J/cm2 in 10 ns

          1110-i0

          1110-i45

          260-340

          >99

          >99

          UVFS

          1 J/cm2
          in 10 ns

          1114-i0

          1114-i45

          350-450

          >99

          >99

          UVFS

          1 J/cm2
          in 10 ns

          1116-i0

          1116-i45

          420-680

          >99

          >99

          UVFS, BK7

          1 J/cm2
          in 10 ns

          1130-i0

          1130-i45

          600-900

          >99

          >99

          UVFS, BK7

          1 J/cm2
          in 10 ns

          1132-i0

          1132-i45

          720-880

          >99

          >99

          UVFS, BK7

          1 J/cm2
          in 10 ns

          1133-i0

          1133-i45

          760-840 nm

          >99

          >99

          UVFS, BK7

          1 J/cm2
          in 10 ns

          1142-i0

          1142-i45

          900-1100

          >99

          >99

          UVFS, BK7

          1.5 J/cm2
          in 10 ns

          1144-i0

          1144-i45

          1100-1400

          >99

          >99

          UVFS, BK7

          1.5 J/cm2
          in 10 ns

           EKSMA OPTICS是激光,激光系統和光學儀器中使用的精密激光組件的制造商和供應商。 我們的激光組件可在科學,工業,醫學,美學,軍事和航空航天市場的不同激光和光子學應用中使用。 波長范圍從紫外(193 nm)到可見光(VIS)到紅外(20μm)以及太赫茲(THz)范圍的激光光學組件的應用范圍。
          EKSMA Optics是高功率激光應用,激光介質和非線性頻率轉換晶體,光機械,帶驅動器的電光普克爾盒以及超快脈沖拾取系統的制造商和供應商,它們用于激光器和其他應用光學儀器。
          EKSMA Optics從1983年開始在激光領域開始其一項業務,其基礎是在激光和光學領域的長期專業知識。
          公司提供的所有組件均經過質量控制實驗室的高質量測試和認證。 通過嚴格的檢查程序,質量控制評估以及對新技術的承諾,我們不斷改進并提供優良的質量。 EKSMA OPTICS已通過ISO 9001:2015認證。 必維檢驗集團(Bureau Veritas)頒發的認證。
          EKSMA OPTICS大力投資于的制造設備和擴展制造能力。
          公司擁有:?用于平板玻璃和熔融石英光學元件的切割,研磨和拋光設備。 nonlinear可根據要求提供非線性和電光晶體LBO,BBO,KDP,DKDP,KTP,AgGaSe2,ZnGeP2和其他晶體的拋光設備。 of球面鏡和非球面鏡(包括軸錐)的研磨和拋光設備。 在我們的鏡頭生產工廠中,鏡頭由N-BK7,S-LAH64和UVFS制成。 ?IBS鍍膜設施可用于激光光學和晶體的,超精密薄膜鍍膜。 of電光調制器的組裝設備–基于BBO,DKDP和KTP晶體的普克爾斯盒。

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